● Hệ thống kép: Có thể cấu hình hai chế độ đánh bóng:
Chế độ đánh bóng mặt cắt: Chế độ đánh bóng mặt cắt của mẫu cho độ phân giải hình ảnh cấu trúc bề mặt sâu hơn và rõ nét hơn.
Chế độ đánh bóng phẳng: Cho khả năng đánh bóng bề mặt làm cho bề mặt đồng đều hơn, phạm vi đánh bóng nên tới 5mm (đường kính) và có thể
thay đổi được góc đánh bóng làm nổi bật các đặc tính trên bề mặt mẫu vật.
● Hiệu suất đánh bóng mẫu cao: hiệu suất đánh bóng được cải tiến hơn so với các thế hệ cũ:
Giảm thời gian đánh bóng đặc biệt ở chế độ đánh bóng mặt cắt nhờ thiết kế cải tiến súng phóng chùm ion so với thế hệ trước là model E-3500.
(Tốc độ đánh bóng tối đa: 300um/giờ (500um đối với IM4000 plus) với mẫu Si – giảm 66% thời gian xử lý.)
● Đế giữ mẫu có thể tháo rời dễ dàng:
Đế giữ mẫu có thể tháo lắp dễ dàng thuận tiện cho việc chuẩn bị mẫu và xác định biên độ cắt.
STT |
Mô tả |
|
Bệ mẫu mặt cắt |
Bệ mẫu phẳng |
|
Khí sử dụng |
Khí Argon |
|
Thế gia tốc |
0 – 6kV |
|
Tốc độ đanh bóng tối đa *1*2 (đối với Si) |
Khoảng 300um/h*1*2 |
Khoảng 20um/h*3 (điểm) Khoảng 2um/h*4 (phẳng) |
Kích thước mẫu tối đa |
20(W)x12(D)x7(H)mm |
ɸ50x25(H)mm |
Phạm vi di chuyển mẫu |
X±7mm, Y 0 đến +3mm |
X 0 tới +5mm |
Góc xoay |
- |
1 r/m, 25 r/m |
Xoay qua lại |
±15°, ±30º, ±40º |
±60º±90° |
Nghiêng |
- |
0 - 90º |
Bộ điều khiển lưu lượng khí vào |
Bộ điều khiển Mass flow control |
|
Hệ thống hút chân không |
Bơm Turbo phân tử 33L/s + Bơm quay 135L/min ở tần số 50Hz, 162L/min ở 60Hz |
|
Kích thước |
616(W)x705(D)x312(H)mm |
|
Trọng lượng |
Máy chính 48kg + 28kg bơm quay |
|
Phụ kiện chọn thêm |
Kính hiển vi quang học để quan sát mẫu trong qua trình đánh bóng |
*1: Tốc độ này là độ sâu lớn nhất vào vật liệu Si tính từ vị trí cuối của tấm Mask khoảng 100um
*2: Tốc độ này là giá trị trung bình với vât liệu Si được xử lý trong 2 giờ
*3: Gốc chiếu chùm Ion: 60º giá trị lệch tâm: 4mm
*4: Gốc chiếu chùm Ion: 0º giá trị lệch tâm: 0mm
Hiện tại chưa có ý kiến đánh giá nào về sản phẩm. Hãy là người đầu tiên chia sẻ cảm nhận của bạn.